| 标题 |
 Molecular dynamics study of silicon atomic layer etching by chlorine gas and argon ions 相关领域
氩
离子
硅
材料科学
蚀刻（微加工）
通量
氯
原子物理学
分子动力学
辐照
氪
无定形固体
离子束
图层（电子）
分析化学（期刊）
化学
纳米技术
计算化学
光电子学
结晶学
物理
有机化学
核物理学
冶金
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Joseph R. Vella; David Humbird; David B. Graves 出版日期：2022-02-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
cdercder
Nole
arniu2008
馨馨的科科
8R60d8
XX
huang
OK
超帅的笑蓝
修仙中
学术文献互助
xing_xing
三三三
leery
aaaa
aajhajkahna
Kao
昏睡的蟠桃
渡人舟
皖公网安备34019202002308
