Implementation of an autocorrelation-based adaptive alignment mark detection method in electron beam lithography

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标题	[高分] Implementation of an autocorrelation-based adaptive alignment mark detection method in electron beam lithography
网址	https://doi.org/10.1063/5.0289841
DOI	10.1063/5.0289841 doi
其它	期刊：Nanotechnology and Precision Engineering 作者：Zhixuan Pan; Bohua Yin; Jingyu Huang; Botong Sun; Zhengjie Li; et al 出版日期：2026
求助人	matou 在 2026-03-06 18:48:59 发布自广东，悬赏 50 积分
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