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标题
[高分] Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of Amorphous Se Films
网址
https://doi.org/10.1051/jphyscol:19955131
DOI
10.1051/jphyscol:19955131 doi
其它 期刊：Journal de physique
作者：P. Nagels; Erik Sleeckx; R. Callaerts
出版日期：1995-06-01
求助人
ZHOUZHOU 在 2026-07-10 15:41:33 发布自湖南，悬赏 50 积分
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  • 10小时前，求助关闭

    ZHOUZHOU ZHOUZHOU Lv1 求助人 关闭了本次求助。

    说明 已经有了【积分已退回】

  • 10小时前

    ZHOUZHOU ZHOUZHOU Lv1 求助人 驳回了 小马甲 上传的文件

    说明
    doi错误不是

  • 10小时前

    小马甲 小马甲 Lv12 上传了文件

    已驳回 ajp-jp4199505C5131.pdf (315.13 KB)
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  • 10小时前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

    15:41:38 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
    15:41:35 科研通AI机器人（广州）收到请求，开始寻找文献
    15:41:33 已向机器人发送请求

  • 10小时前

    ZHOUZHOU ZHOUZHOU Lv1 求助人 发起了本次求助

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