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标题
Eliminating Nucleation Delay for Atomic Layer-Deposited Low-Defect Dense Multi-Component Thin Films through Preoccupation of Interstitial Sites
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.4c22420
DOI
10.1021/acsami.4c22420 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Guoping Su; Haoyan Chen; Honglong Ning; Xiao Fu; Muyun Li; et al
出版日期：2025-04-15
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STP顶峰相见 在 2026-08-25 16:52:25 发布自天津，悬赏 10 积分
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  • 1天前

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  • 1天前

    STP顶峰相见 STP顶峰相见 Lv6 求助人 发起了本次求助

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