| 标题 |
  Etch aware computational patterning in the era of atomic precision processing 相关领域
薄脆饼
等离子体刻蚀
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| DOI |
10.1117/12.2513211
doi
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| 其它 |
期刊：Advanced Etch Technology for Nanopatterning VIII 作者：Peter Ventzek; Alok Ranjan; Jun Shinagawa 出版日期：2019-03-20 |
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