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Process and Characteristics of Cobalt Films Deposited by Thermal Atomic Layer Deposition and Silicide Film Formed 热原子层沉积钴薄膜的工艺和特性及硅化物薄膜的形成
相关领域
硅化物
钴
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期刊:Vacuum 作者:Shuai Yang; Gao Jian-feng; Jinjuan Xiang; Weibing Liu; Yanpeng Hu; et al 出版日期:2025-05-01 |
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