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标题
Process and Characteristics of Cobalt Films Deposited by Thermal Atomic Layer Deposition and Silicide Film Formed
热原子层沉积钴薄膜的工艺和特性及硅化物薄膜的形成
相关领域
硅化物 图层(电子) 材料科学 原子层沉积 沉积(地质) 冶金 过程(计算) 化学工程 热的 薄膜 纳米技术 热力学 地质学 计算机科学 物理 古生物学 沉积物 工程类 操作系统
网址
DOI
10.1016/j.vacuum.2025.114457 doi
其它 期刊:Vacuum
作者:Shuai Yang; Gao Jian-feng; Jinjuan Xiang; Weibing Liu; Yanpeng Hu; et al
出版日期:2025-05-01
求助人
寂寞的迎天 在 2025-12-21 20:49:09 发布自天津,悬赏 10 积分
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