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标题
Growth Optimization of Nonpolar Al0.7Sc0.3N(112¯0)/Al2O3(11¯02) Thin Films Using Reactive Magnetron Sputter Epitaxy
反应磁控溅射外延非极性Al0.7Sc 0.3 N（112′0）/Al2O3（11′02）薄膜的生长优化
相关领域
半最大全宽 基质（水族馆） 薄膜 分析化学（期刊） 溅射沉积 外延 腔磁控管 材料科学 溅射 表面粗糙度 化学 光电子学 纳米技术 复合材料 图层（电子） 海洋学 色谱法 地质学
网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202200380
AI链接 fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1002/pssa.202200380 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Akash Nair; Maximilian Kessel; Lutz Kirste; Niclas M. Feil; Mario Prescher; et al
出版日期：2022-09-28
求助人
舒适映萱 在 2025-12-03 22:30:18 发布自内蒙古，悬赏 10 积分
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    待审核 Physica Status Solidi a - 2022 - Nair - Growth Optimization of Nonpolar Al0 7Sc0 3N 112 0 Al2O3 11 02 Thin Films Using.pdf (6.29 MB)
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    舒适映萱 舒适映萱 Lv5 求助人 发起了本次求助

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