| 标题 |
Oxidation of amorphous HfNbTaTiZr high entropy alloy thin films prepared by DC magnetron sputtering 直流磁控溅射制备非晶态HfNbTaTiZr高熵合金薄膜的氧化
相关领域
无定形固体
材料科学
薄膜
溅射沉积
溅射
高熵合金
空位缺陷
合金
下部结构
硫系化合物
分析化学(期刊)
化学工程
结晶学
冶金
纳米技术
化学
结构工程
色谱法
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Alloys and Compounds 作者:Petr Hruška; František Lukáč; Stanislav Cichoň; Martin Vondráček; Jakub Čı́žek; et al 出版日期:2020-11-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|