Kinetics of the WF6 and Si2H6 surface reactions during tungsten atomic layer deposition

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标题	Kinetics of the WF6 and Si2H6 surface reactions during tungsten atomic layer deposition 钨原子层沉积过程中WF6和Si2H6表面反应动力学相关领域二硅烷粘着系数钨原子层沉积化学饱和（图论）分析化学（期刊）化学气相沉积硅沉积（地质）图层（电子）物理化学环境化学吸附古生物学解吸有机化学组合数学生物数学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/s0039-6028(01)00969-4
DOI	10.1016/s0039-6028(01)00969-4 doi
其它	期刊：Surface Science 作者：Jeffrey W. Elam; Christopher E. Nelson; Robert K. Grubbs; Steven M. George 出版日期：2001-05-01
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