The features of surface charging on rectangle mask holes in plasma etching

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标题	The features of surface charging on rectangle mask holes in plasma etching 等离子体刻蚀中矩形掩模孔表面带电特性相关领域矩形物理蚀刻（微加工）曲率 GSM演进的增强数据速率电场领域（数学）等离子体基质（水族馆）分布均匀性分布（数学）光学等离子体刻蚀六方晶系几何学离子计算物理学纳米技术结晶学材料科学化学数学分析复合材料地质学海洋学电信纯数学量子力学图层（电子）计算机科学数学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0118581
DOI	10.1063/5.0118581 doi
其它	期刊：Physics of Plasmas 作者：Peng Zhang; Dengmei Li 出版日期：2022-10-01
求助人	钟123 在 2025-07-30 14:24:30 发布自上海，悬赏 10 积分
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