Protective Free-Standing Films for Projection Lithography Installations in the Extreme UV Range

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标题	Protective Free-Standing Films for Projection Lithography Installations in the Extreme UV Range 用于极端紫外线范围投影曝光装置的保护性独立膜相关领域极紫外光刻光掩模平版印刷术极端紫外线透射率光学材料科学下一代光刻波长光电子学光圈（计算机存储器）光刻抵抗电子束光刻纳米技术物理激光器声学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1134/s1063739723700622
DOI	10.1134/s1063739723700622 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：S. Yu. Zuev; A. Ya. Lopatin; В. И. Лучин; Н. Н. Салащенко; Н. Н. Цыбин; et al 出版日期：2023-10-01
求助人	QRE 在 2025-07-17 17:15:27 发布自北京，悬赏 10 积分
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