Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress of HfO2 films

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标题	Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress of HfO2 films 相关领域残余应力材料科学分压微观结构电子束物理气相沉积复合材料沉积（地质）氧气衍射极限抗拉强度薄膜光学化学纳米技术物理古生物学生物有机化学沉积物
网址	https://doi.org/10.7498/aps.58.7025
DOI	10.7498/aps.58.7025 doi
其它	期刊：Acta Physica Sinica 作者：Cen Min; Yueguang Zhang; Chen Wei-Lan; Peifu Gu 出版日期：2009-01-01
求助人	小Q 在 2025-10-28 18:51:10 发布自四川，悬赏 10 积分
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