Effect of N2O to C4F8/O2 on global warming during silicon nitride plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) chamber cleaning using a remote inductively coupled plasma source

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标题	Effect of N2O to C4F8/O2 on global warming during silicon nitride plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) chamber cleaning using a remote inductively coupled plasma source
网址	http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.41.L1495
DOI	10.1143/JJAP.41.L1495 doi
求助人	nzy 在 2026-06-25 16:12:10 发布自上海，悬赏 10 积分
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