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 Area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) of low temperature (300 °C) cobalt thin film using octadecyltrichlorosilane (ODTS) self-assembled monolayers (SAMs) 相关领域
十八烷基三氯氢硅
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期刊：Applied Surface Science 作者：Chaewon Kim; Moonsuk Choi; Ji-Hyun Sim; Hyung-jun Kim; Changhwan Choi 出版日期：2024-04-01 |
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