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Damage-Free Dry Polishing of 4H-SiC Combined with Atmospheric-Pressure Water Vapor Plasma Oxidation |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Hui Deng; Tatsuya Takiguchi; Masaki Ueda; Azusa N. Hattori; Nobuyuki Zettsu; Kazuya Yamamura 出版日期:2011-08-22 |
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