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标题
Modeling of silicon nitride chemical vapor deposition in high aspect ratio nano-scale substrate features
高纵横比纳米尺度衬底特征中氮化硅化学气相沉积的建模
相关领域
沟槽 材料科学 化学气相沉积 浅沟隔离 沉积（地质） 基质（水族馆） 薄膜 硅 光电子学 氮化硅 扩散 动态随机存取存储器 纳米技术 计算机科学 图层（电子） 半导体存储器 物理 地质学 古生物学 操作系统 海洋学 热力学 生物 沉积物
网址
https://doi.org/10.1117/12.3010859
DOI
10.1117/12.3010859 doi
其它 期刊：
作者：Shao Hua; Sen Deng; Chaoran Yang; Junjie Li; Rui Chen; et al
出版日期：2024-02-23
求助人
对镜贴花 在 2025-12-31 15:03:30 发布自上海，悬赏 20 积分
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