| 标题 |
 Diamond ICP-DRIE etching technology with PECVD SiO 2 as mask 以PECVD SiO2为掩模的金刚石ICP-DRIE刻蚀技术
相关领域
钻石
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
反应离子刻蚀
蚀刻（微加工）
化学气相沉积
体积流量
光电子学
扫描电子显微镜
轮廓仪
分析化学（期刊）
感应耦合等离子体
燃烧室压力
缓冲氧化物腐蚀
图层（电子）
各向同性腐蚀
干法蚀刻
微晶
选择性
沉积（地质）
等离子体刻蚀
人造金刚石
纳米技术
硅
聚晶金刚石
透射电子显微镜
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Rui Tang; Zhang Jin-wen; Jianyu Du; Wei Wang 出版日期：2025-10-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
Maestro_S
Criminology34
wwww
奔跑
修仙中
sagitar
Kao
aajhajkahna
arniu2008
渡人舟
Car66614
dde
无极微光
小高
OK
大苦瓜
碧蓝明雪
Nole
东方元语
皖公网安备34019202002308
