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 Thick photoresist outgassing during MeV implantation (mechanism and impact on production) MeV注入过程中的厚光刻胶放气（机理及对生产的影响）
相关领域
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期刊： 作者：W.J. Lee; N. Tokoro; H.T. Cho; John Borland; M. Dennon; et al 出版日期：2002-12-24 |
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