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 Atomic layer deposition of AlN using atomic layer annealing—Towards high-quality AlN on vertical sidewalls 使用原子层退火的AlN原子层沉积——在垂直侧壁上获得高质量的AlN
相关领域
材料科学
原子层沉积
微电子机械系统
退火（玻璃）
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Elmeri Österlund; Heli Seppänen; Kristina Bespalova; Ville Miikkulainen; Mervi Paulasto‐Kröckel 出版日期：2021-03-08 |
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