Using water structuring by ions to address pattern loading in wet HF-based oxide recess etch - 科研通

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标题	[高分] Using water structuring by ions to address pattern loading in wet HF-based oxide recess etch 使用离子水结构化来解决湿HF基氧化物凹槽蚀刻中的图案负载相关领域磷酸氧化物离子蚀刻（微加工）材料科学傅里叶变换红外光谱化学分析化学（期刊）化学工程无机化学纳米技术色谱法冶金有机化学图层（电子）工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2023.112058
DOI	10.1016/j.mee.2023.112058 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Guy Vereecke; Hanne De Coster; Denis Dochain; Kunsulu Nurekeyeva; Shona Conlan; et al 出版日期：2023-06-26
求助人	不想搞科研在 2025-05-19 16:33:52 发布自湖北，悬赏 50 积分
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