| 标题 |
Next-generation DUV light source technologies for 10nm and below |
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| DOI |
10.1117/12.2260319
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| 其它 |
期刊:Advanced Lithography 作者:T. Cacouris; G. Rechtsteiner; W. Conley 出版日期:2017-03-30 |
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(2025-6-4)