A Simple Chemical Route via Ultrasonication‐Enabled In Situ HF Etching for Intercalant‐Free, Phase‐Pure MXene With Enhanced Interlayer Spacing

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标题	A Simple Chemical Route via Ultrasonication‐Enabled In Situ HF Etching for Intercalant‐Free, Phase‐Pure MXene With Enhanced Interlayer Spacing
网址	https://aces.onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/cnma.20...
DOI	10.1002/cnma.202500752 doi
其它	期刊：ChemNanoMat 作者：Siddharth Kiran; Subhasis Rana; Moupiya Ghosh; M. Char; Shrabanee Sen 出版日期：2026-04-01
求助人	vavel 在 2026-09-24 15:49:09 发布自广东，悬赏 10 积分
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