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  Review—Investigation and Review of the Thermal, Mechanical, Electrical, Optical, and Structural Properties of Atomic Layer Deposited High-kDielectrics: Beryllium Oxide, Aluminum Oxide, Hafnium Oxide, and Aluminum Nitride 综述-原子层沉积高k电介质：氧化铍、氧化铝、氧化铪和氮化铝的热、机械、电、光学和结构性能的研究和综述
相关领域
材料科学
电介质
高-κ电介质
氮化物
氧化铍
原子层沉积
氮化硅
热膨胀
氧化物
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图层（电子）
冶金
核物理学
物理
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：John T. Gaskins; Patrick E. Hopkins; Devin R. Merrill; Sage R. Bauers; Erik Hadland; et al 出版日期：2017-01-01 |
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