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 A Comparative Study on Fluorination and Oxidation of Indium–Gallium–Zinc Oxide Thin-Film Transistors 铟镓锌氧化物薄膜晶体管氟化与氧化的比较研究
相关领域
铟
镓
材料科学
钝化
氧化剂
光电子学
锌
晶体管
氧化物
薄膜晶体管
电子工程
纳米技术
冶金
电气工程
图层（电子）
化学
工程类
有机化学
电压
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期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Lei Lu; Zhihe Xia; Jiapeng Li; Zhuoqun Feng; Sisi Wang; et al 出版日期：2017-12-12 |
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