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Low-temperature etching of silicon oxide and silicon nitride with hydrogen fluoride
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网址
www.osti.gov/servlets/purl/2514386
AI链接 osti.govdoi.org
DOI
10.1116/6.0004019 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Thorsten Lill; Mingmei Wang; Dong‐Jun Wu; Youn-Jin Oh; Tae‐Won Kim; et al
出版日期：2024-11-18
求助人
Yuqi 在 2026-08-18 09:38:22 发布自上海，悬赏 10 积分
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