| 标题 |
The influence of sputtering condition for ferroelectric HfO2 directly deposited on Si(100) by RF magnetron sputtering |
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10.11470/jsapmeeting.2019.1.0_1222
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期刊:JSAP Annual Meetings Extended Abstracts 作者:MinGee Kim; Masakazu Kataoka; Rengie Mark D. Mailig; Shun-ichiro Ohmi 出版日期:2019-02-25 |
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