The role of the HfO2–TiN interface in capacitance–voltage nonlinearity of Metal-Insulator-Metal capacitors

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标题	The role of the HfO2–TiN interface in capacitance–voltage nonlinearity of Metal-Insulator-Metal capacitors
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.02.074
DOI	10.1016/j.tsf.2009.02.074 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Ch. Wenger; M. Lukosius; G. Weidner; H.-J. Müssig; S. Pasko; Ch. Lohe 出版日期：2009
求助人	Fzx 在 2026-05-27 17:27:02 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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