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 A review of the chemical reaction mechanism and kinetics for hydrofluoric acid etching of silicon dioxide for surface micromachining applications 相关领域
氢氟酸
硅醇
表面微加工
二氧化硅
蚀刻（微加工）
干法蚀刻
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硅
材料科学
缓冲氧化物腐蚀
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化学
纳米技术
无机化学
化学工程
复合材料
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图层（电子）
医学
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病理
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期刊：Thin Solid Films 作者：David J. Monk; David S. Soane; Roger T. Howe 出版日期：1993-09-01 |
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