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Smooth and Vertical Etching of GaAs/GaInP/AlGaInP Using Inductively Coupled Cl2/BCl3/CH4Plasma |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Zhibiao Hao; Shuo Han; Fan Ren; Bing Xiong; Changzheng Sun; et al 出版日期:2004-12-09 |
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