Thermal atomic layer etching of germanium-rich SiGe using an oxidation and “conversion-etch” mechanism

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标题	Thermal atomic layer etching of germanium-rich SiGe using an oxidation and “conversion-etch” mechanism
网址	https://doi.org/10.1116/6.0000834
DOI	10.1116/6.0000834 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：А. И. Абдулагатов; Varun Sharma; Jessica A. Murdzek; Andrew S. Cavanagh; Steven M. George 出版日期：2021-02-24
求助人	songcraft 在 2026-10-19 18:05:03 发布自江苏，悬赏 10 积分
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