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[高分] 学位论文 A room temperature method for the formation of ultrathin silicon oxide films
一种形成超薄氧化硅薄膜的室温方法
相关领域
材料科学
硅
氧化物
纳米技术
化学工程
光电子学
冶金
工程类
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作者为Muisener, Richard John Thesis (Ph.D.)--University of Connecticut, 1999.; Publication Number: AAI9956479; ISBN: 9780599595392; |
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