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 Development of an e-beam/i-line stepper intra-level mix and match approach with the photoresist mr-EBL 6000.5 for PIC related structures such as waveguides, ring resonators and coupling structures 利用光致抗蚀剂mr-EBL 6000.5开发用于PIC相关结构（如波导、环形谐振器和耦合结构）的电子束/i线步进级内混合和匹配方法
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步进电机
光刻胶
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光刻
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期刊： 作者：M. Reinhardt; Christian Helke; Sebastian Schermer; Susanne Hartmann; Anja Voigt; et al 出版日期：2023-10-05 |
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