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 Effect and mechanism of oxidant on alkaline chemical mechanical polishing of gallium nitride thin films 氧化剂对氮化镓薄膜碱性化学机械抛光的影响及机理
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Yebo Zhu; Xinhuan Niu; Ziyang Hou; Yinchan Zhang; Yunhui Shi; et al 出版日期：2022-02-01 |
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