| 标题 |
Integration of Electrodeposited Ni-Fe in MEMS with Low-Temperature Deposition and Etch Processes 电沉积Ni-Fe在MEMS中的低温沉积和蚀刻工艺集成
相关领域
材料科学
微电子机械系统
蚀刻(微加工)
表面微加工
图层(电子)
化学气相沉积
硅
沉积(地质)
体微机械加工
氧化物
氮化硅
原子层沉积
冶金
光电子学
纳米技术
制作
病理
生物
古生物学
医学
替代医学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Materials 作者:Giuseppe Schiavone; J. Murray; Richard Perry; Andrew R. Mount; Marc P. Y. Desmulliez; et al 出版日期:2017-03-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)