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Digital twin assisted gas development for high etching rate in HF-based cryogenic HAR dielectric etching |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Kenta Tanaka; Yuta Kishimoto; Yasuhiro Nakai; Yasuhiro Nojiri; Iseul Jang; et al 出版日期:2026-03-18 |
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(2025-6-4)