| 标题 |
Optimization of dry etching parameters for fabrication of polysilicon waveguides with smooth sidewall using a capacitively coupled plasma reactor |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Optics 作者:Surya Cheemalapati; Mikhail Ladanov; John Winskas; Anna Pyayt 出版日期:2014 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)