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标题
Non-reciprocal double-exposure materials for 193nm pitch division
用于193nm间距划分的非互易双曝光材料
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1117/12.846988
DOI
10.1117/12.846988 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Robert Bristol; J. M. Roberts; David Shykind; James M. Blackwell
出版日期：2010-03-11
求助人
傲娇石头 在 2025-10-27 08:32:02 发布自黑龙江，悬赏 20 积分
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