Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. II. Experiments and model validation

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标题	Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. II. Experiments and model validation 相关领域蚀刻（微加工）材料科学纳米结构半导体气相纳米技术纵横比（航空）光电子学化学有机化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004156
DOI	10.1116/6.0004156 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Zach Zajo; David S. L. Mui; Ji Zhu; Yusef Shari’ati; Mark Kawaguchi; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	HoldenX 在 2026-04-21 08:30:31 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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