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 0.5 keV Xe+ ion beam nano smoothing of ULE® substrate after processing with 3.0–10.0 keV Xe+ ion beam 相关领域
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：K. Morijiri; Hironori Endo; K. Morikaawa; S.A. Pahlovy; Iwao Miyamoto 出版日期：2011-02-07 |
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