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Modeling the Conformality of Atomic Layer Deposition: The Effect of Sticking Probability
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DOI
10.1149/1.3072694 doi
其它 期刊:Journal of The Electrochemical Society
作者:Jolien Dendooven; D. Deduytsche; Jan Musschoot; Roland Vanmeirhaeghe; Christophe Detavernier
出版日期:2009-01-01
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valorain 在 2026-06-01 10:35:18 发布自上海,悬赏 10 积分
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