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标题
Novel EUV Resists Materials for 16nm HP and beyond
网址
DOI
10.2494/photopolymer.27.639 doi
其它 期刊:Journal of Photopolymer Science and Technology
作者:Kazunori Sakai; Motohiro Shiratani; Tomohisa Fujisawa; Koji Inukai; Kaori Sakai; et al
出版日期:2014
求助人
樊珩 在 2026-05-31 22:47:04 发布自上海,悬赏 10 积分
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  • 17小时前,求助关闭

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  • 17小时前

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  • 17小时前

    樊珩 樊珩 Lv5 求助人 发起了本次求助

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