Technical challenges and material solutions for high‑absorbance chemically amplified EUV photoresists

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标题	Technical challenges and material solutions for high‑absorbance chemically amplified EUV photoresists
网址	https://doi.org/10.1117/12.3090171
DOI	10.1117/12.3090171 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者：B. Rafael-Naab; J. Park; S. M. Coley; Y. Cen; E. Aqad; et al 出版日期：2026
求助人	樊珩在 2026-05-31 22:47:05 发布自上海，悬赏 20 积分
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