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标题
(Digital Presentation) Characterization and Compression Technology of Real 3D Corner Residue Between Dummy Gate and Formed Fin During an Advanced Inductive Coupled Plasma (ICP) Gate Etch Process in Advanced FinFET
网址
https://iopscience.iop.org/article/10.1149/10805.0047ecst
DOI
10.1149/10805.0047ecst doi
其它 期刊：ECS Transactions
作者：Xingyu Xiao; Yanliang Wang; Bo Su; Xing Ke; Shiliang Ji; Hai-Yang Zhang
出版日期：2022-05-20
求助人
Joyezhou 在 2026-04-28 16:49:35 发布自广东，悬赏 10 积分
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