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Study for Ar/NF3 plasma chemistries in inductively coupled discharges with global model and experiment |
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期刊:Plasma Sources Science and Technology 作者:Shi-Zhong Huang; Xin-Jie Wang; Xiangyun Lyu; Xing-Yu Chen; Ming-Liang Zhao; et al 出版日期:2026 |
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(2025-6-4)