Quantitative study of oxidation mechanism in photoelectrochemical mechanical polishing of difficult-to-process semiconductor wafers

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标题	Quantitative study of oxidation mechanism in photoelectrochemical mechanical polishing of difficult-to-process semiconductor wafers
网址	https://doi.org/10.1016/j.ijmachtools.2025.104307
DOI	10.1016/j.ijmachtools.2025.104307 doi
其它	期刊：International Journal of Machine Tools & Manufacture 作者：Yuewen Sun; Shang Gao; Bi Zhang; Yang Zhao; Xiaoguang Guo; et al 出版日期：2025-07-01
求助人	LWK1995 在 2026-09-28 20:11:08 发布自广东，悬赏 10 积分
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