The effect of backside films on rapid thermal oxidation (RTO) growth on silicon wafers

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标题	The effect of backside films on rapid thermal oxidation (RTO) growth on silicon wafers
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/6336/16936/00781154.pdf?...
DOI	10.1109/smelec.1998.781154 doi
其它	期刊：ICSE'98. 1998 IEEE International Conference on Semiconductor Electronics. Proceedings (Cat. No.98EX187) 作者：A. Omar; I. Ahmad 出版日期：2002-11-28
求助人	hh 在 2026-05-15 15:51:01 发布自北京，悬赏 10 积分
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