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Improvement of Thermal Stability in Dual Mechanism Memory Using HfxAl1-xO Blocking Layer for 3D V-NAND Flash Application |
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Jun Hong Chu; Sheung Hun Kim; Changyeon Kang; Eui Joong Shin; Jaejoong Jeong; et al 出版日期:2024-09-26 |
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(2025-6-4)