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Infinite selectivity in dry etching process for high-aspect-ratio hole using C7HF7 gas plasma |
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Junji Kataoka; Norikatsu Sasao; Koji Asakawa; Shuichi Kuboi; Daiki Iino; et al 出版日期:2025-06-18 |
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(2025-6-4)