Atomic layer deposition and selective etching of ruthenium for area-selective deposition: Temperature dependence and supercycle design

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标题	Atomic layer deposition and selective etching of ruthenium for area-selective deposition: Temperature dependence and supercycle design
网址	https://doi.org/10.1116/6.0000912
DOI	10.1116/6.0000912 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Martijn F. J. Vos; Sonali N. Chopra; John G. Ekerdt; Sumit Agarwal; W. M. M. Kessels; et al 出版日期：2021-04-09
求助人	悦耳破茧在 2026-08-23 13:35:05 发布自山东，悬赏 10 积分
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