| 标题 |
 Simulation of plasma properties in magnetron sputtering for two kinds of cathode targets 相关领域
阴极
多物理
等离子体
阳极
电场
电子
腔磁控管
原子物理学
材料科学
热阴极
二次排放
溅射
电气工程
物理
有限元法
工程类
薄膜
纳米技术
核物理学
电极
热力学
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Radiation Detection Technology and Methods 作者：Di-zhou Guo; Shuang-kai Chen; Yong-sheng Ma 出版日期：2020-01-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
lixinglei
张欢馨
cdercder
Nole
xing_xing
DKJ
Kao
OK
寻雯静
aajhajkahna
潇洒的惋清
呼呼不爱噜噜
woshi123
dew
yjh123
乐空思
俭朴苑博
嘉心糖
昏睡的蟠桃
arniu2008
皖公网安备34019202002308
